中国据报开始小批量生产自主沉浸式深紫外光刻机

据科技媒体《信息报》援引消息人士报导称，一家总部位于上海的中国公司已开始限量生产沉浸式深紫外光刻机。这家公司计划今年生产5套系统以供交付，预计到2027年生产约20台沉浸式深紫外光刻机。 

作者： 弗林 

虽然这个数字可能看起来并不大，但它代表了中国在开发本土深紫外光刻机生产方面作出的重大努力，预计将能减少对荷兰芯片设备巨头阿斯麦（ASML）等第三方供应商的依赖。这家上海公司计划首先向中芯国际、长鑫存储和华虹交付，并将这些机器集成到它们的生产流程中。

该消息发布后，阿斯麦股价下跌超过7%，创下自6月8日以来的最大单日跌幅。阿斯麦拒绝回应置评请求。该报道也影响了全球芯片设备供应链相关企业的股价。

由于事关敏感，相关人士并未透露这家国有背景的制造商的身份。这项突破最终可能会挑战阿斯麦在中国的市场地位，但上述系统在性能和可靠性方面仍有不足，在量产前还需要进一步测试，因此目前阿斯麦的优势依然存在。初期产量将受到限制，今年预计生产约5台沉浸式深紫外光刻机，到2027年预计生产约20台。

沉浸式深紫外光刻机用于将电路图案印制在硅片上；在相关限制措施切断了中方对极紫外光刻机（EUV）的获取途径后，前者便成了中国芯片制造商所能使用的最先进光刻工具。

中国也在研发国产极紫外光刻机，尽管目前仍处于原型机阶段。鉴于美国正考虑协调盟国对向中国出口光刻设备及提供相关维护服务实施更严格的限制，本土生产的沉浸式深紫外光刻机有望为中国芯片制造商提供关键设备的替代来源。